移动端
微信搜“题王网”真题密题、最新资讯、考试攻略、轻松拿下考试
首页
词条
光刻
不论正胶或负胶,光刻过程中都包括如下步骤: 1.刻蚀 2.前烘 3..显影 4.去胶 5.涂胶 6.曝光 7.坚膜 以下选项排列正确的是:()。
什么是负光刻胶?
简述光刻胶的概念及目的
光刻加工主要用于()。
后光刻时代有那些光刻新技术?
负性和正性光刻胶有什么区别和特点?
什么叫做光刻,光刻有何目的?
光刻工艺的主要流程有哪几步?什么是光刻工艺的分辨率?从物理角度看,限制分辨率的因素是什么?最常用的曝光光源是什么?
电子束光刻主要用于制作掩膜。