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磁控溅射
比较磁控溅射法与化学气相沉积法的特点是什么?
与普通溅射法相比,磁控溅射的特点是什么?
常用的溅射镀膜方法有直流溅射、射频溅射、磁控溅射,其中磁控溅射的气压最低、靶电流密度最高。
根据引起气体放电的机理不同,可形成不同的溅射镀膜方法,主要有()溅射、()溅射、反应溅射、磁控溅射等方法。