刻蚀剖面指的是（），有两种基本的刻蚀剖面（）刻蚀剖面和（）刻蚀剖面。

刻蚀剖面指的是被刻蚀图形的侧壁形状。有两种基本的刻蚀剖面：各向同性和各向异性刻蚀剖面。各向同性的刻蚀剖面是在所有方向上（横向和纵向）以相同的刻蚀速率进行刻蚀，导致被刻蚀材料在掩模下面产生钻蚀（见图）而形成的，这带来不希望的线宽损失。湿法化学腐蚀本质上是各向同性的，因而湿法腐蚀不用于亚微米器件制作中的选择性图形刻蚀。一些干法等离子体系统也能进行各向同性刻蚀。由于后续工艺步骤或者被刻蚀材料的特殊需要，也有一些要用到各向同性腐蚀的地方。

生活的尺寸就是欢喜与忧愁之间的拿捏与平衡。那些甘心付出的真、复水难收的伤没有甚么好脸红的。谁不是从欢喜找到自己；经过忧愁发现成熟？让我欢喜让我忧，生活是一出值回票价的好戏，有时欢喜有时忧，生命是一首怎么唱都唱不腻的好歌。在歌里，我们一直在一起。华健的世界是一个质朴平凡的有情天地，正因为平凡，他彷佛成为现代都会平凡大众的代言人。《让我欢喜让我忧》的空前成功，也标志着华语流行乐坛「周华健时代」的正式来临。

刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程，其基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形。随着微制造工艺的发展，广义上来讲，刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法。