判断题
在紫外光曝光、X射线曝光、电子束曝光技术中可实现直写式曝光不需要掩模版的是X射线曝光技术。
发布日期：2020-12-11
对
错
试题解析
电子束曝光
电子束曝光（electron beam lithography）指使用电子束在表面上制造图样的工艺，是光刻技术的延伸应用。光刻技术的精度受到光子在波长尺度上的散射影响。使用的光波长越短，光刻能够达到的精度越高。根据德布罗意的物质波理论，电子是一种波长极短的波。这样，电子束曝光的精度可以达到纳米量级，从而为制作纳米线提供了很有用的工具。电子束曝光需要的时间长是它的一个主要缺点。为了解决这个问题，纳米压印术应运而生。电子束曝光在半导体工业中被广泛使用于研究下一代超大规模集成电路。
- 中文名
- 电子束曝光
- 延伸应用
- 光刻
- 外文名
- electron beam lithography
- 使用场景
- 研究下一代
紫外光
紫外光是电磁波谱中波长从0.40~0.01微米辐射的总称，不能引起人们的视觉。电磁谱中波长0.40~0.01微米辐射，即可见光紫端到X射线间的辐射。具有杀菌的功能。
- 中文名
- 紫外光
- 范围
- 0.40~0.01微米
- 外文名
- ultraviolet light, ultraviolet radiation
- 功能
- 杀菌
曝光
《曝光》是黎明演唱的歌曲，收录于其1997年发行的专辑《Leon Sound》中。
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