多选题
蚀刻过程中为使加速蚀刻反应正向进行的措施有（）。
发布日期：2020-12-11
增加二价铜离子的浓度
使一价铜生成配合物
使一价铜生成沉淀
减少二价铜离子的浓度
试题解析
蚀刻
蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
- 中文名
- 蚀刻
- 别名
- 光化学蚀刻
- 分类
- 湿蚀刻和干蚀刻
- 外文名
- etching
- 定义
- 用
- 注意问题
- 提高蚀刻系数、减少污染等
为使
为使，为了使得（如何）。公文用语。
正向
中文名称 正向英文名称 forwarddirection，conductingdirection
- 中文名
- 正向
- 别称
- 导通方向
- 外文名
- forwarddirection，conductingdirection
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