单选题
发布日期:2020-12-11
0-5V
0-10V
0-12V
0-15V
装设在RCD内的模拟RCD在规定条件下动作的剩余电流条件的装置。
霍尔槽(英文:Hull Cell) ,又称赫尔槽或哈氏槽。霍尔槽试验只需要少量镀液,经过短时间试验便能得到在较宽的电流密度范围内镀液的电镀效果。由于该试验对镀液组成及操作条件作用敏感,因此,常用来确定镀浓各组分的浓度以及pH值,确定获得良好镀层的电流密度范围,同时也常用于镀液的故障分析。因此,霍尔槽已成为电镀研究、电镀工艺控制不可缺少的工具。
电磁学上把单位时间里通过导体任一横截面的电量叫做电流强度,简称电流(Electron current),电流符号为 I,单位是安培(A),简称“安”(安德烈·玛丽·安培,1775~1836,法国物理学家、化学家,在电磁作用方面的研究成就卓著,对数学和物理也有贡献。电流的国际单位安培即以其姓氏命名)。导体中的自由电荷在电场力的作用下做有规则的定向运动就形成了电流。电学上规定:正电荷定向流动的方向为电流方向。此外,工程中也以正电荷的定向流动方向为电流方向,电流的大小则以单位时间内流经导体截面的电荷Q来表示其强弱,称为电流强度。大自然有很多种承载电荷的载子。例如:导电体内可移动的电子、电解液内的离子、等离子体内的电子和离子、强子内的夸克。这些载子的移动,形成了电流。
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