问答题
给出投影掩模板的定义。投影掩模板和光掩模板的区别是什么？
发布日期：2022-06-04
试题解析
掩模
掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形缩小4~10倍（现代光刻机一般都是缩小4倍）后透射在晶圆表面。为了区别接触式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模（reticle）。
- 中文名
- 掩模
- 外文名
- Mask
板的
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投影
光学上指物体的影子投到一个面上、数学上指图形的影子投到一个面或一条线上。.物体或图形的影子投射在一个面上或一直线上。投影还比喻此物通过彼物表现出来的迹象。
- 中文名
- 投影
- 文献
- 《龙马赞》
- 比喻义
- 此物通过彼物表现出来的迹象
- 作者
- 杨朔
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