问答题
硅气相外延工艺采用的衬底不是准确的晶向，通常偏离（100）或（111）等晶向一个小角度，为什么？
发布日期：2020-12-11
试题解析
外延工艺
外延工艺（epitaxy technique）是2005年发布的航天科学技术名词。
- 中文名
- 外延工艺
- 所属学科
- 航天科学技术
- 审定机构
- 全国科学技术名词审定委员会
- 外文名
- epitaxy technique
- 公布时间
- 2005年
衬底
衬底，分为绘图衬底，和化工学衬底两种。绘图衬底指的是将图片或文字充满整个版面使其为底纹。化工学衬底最常见的为氮化物衬底材料等。
- 中文名
- 衬底
- 材料
- 蓝宝石、硅、碳化硅
- 分类
- 绘图衬底、化工学衬底
- 其他材料
- GaAS、AlN、ZnO
晶向
晶向是指晶体的一个基本特点是具有方向性，沿晶格的不同方向晶体性质不同。布拉维点阵的格点可以看成分列在一系列相互平行的直线系上，这些直线系称为晶列。同一个格点可以形成方向不同的晶列，每一个晶列定义了一个方向，称为晶向。
- 中文名
- 晶向
- 基本特点
- 具有方向性
- 位相确定
- 晶向指数
- 外文名
- Crystal orientation
- 释义
- 通过晶体中原子
- 相关概念
- 晶面、晶面指数
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