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判断题

光掩膜法成形原理上与光化学加工制备掩膜时原理类似,只是后者制备的掩膜较薄,而非立体零件。

发布日期:2020-12-11

光掩膜法成形原理上与光化学加工制备掩膜时原理类似,只是后者制备的掩膜较薄,而非立体零件。
A

B

试题解析

光掩膜

在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到晶圆(wafer)制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价最高的一部分,也是限制最小线宽的瓶颈之一。

中文名
光掩膜
种类
铬版、干版,凸版、液体凸版
外文名
photo tool / photo mask
应用领域
芯片制造

制备

制备,拼音是zhì bèi,汉语词语,意思是制作购置。

中文名
制备
释义
制作购置
拼音
zhì bèi
出处
《儒林外史》

类似

类似,读音为lèi sì,汉语词语,指大致相像,出自《东观汉记·明帝纪》:“臣望颜色仪容,类似先帝。

中文名
类似
外文名
analogous
定义
好像,相像
拼音
lèi sì
注音
ㄌㄟˋ ㄙˋ
出处
《东观汉记·明帝纪》

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