问答题
缩写中文含义 APCVD HDPCVD LPCVD PECVD PVD BJT CD CMOS CMP MIC ILD MBE SOI DUV MOCVD BSG PSG BPSG RTP RTA IC LOCOS STI LI VLSI CA FIB ARC ASIC RIE FIB EUV LDD
发布日期：2020-12-11
试题解析
缩写
缩写是一个汉语词汇，意思是指为了便利使用，由较长的汉语语词缩短省略而成的汉语语词。缩写时应忠于原文，不改变原文的主题或中心思想，不改变原文的梗概。也可以说是作为一个较长名称的简写。缩写之后必须保证不会扭曲词汇的意思，有些词汇缩写之后将变成另外一个词，这个情况下不能缩写。
- 中文名
- 缩写
- 注音
- ㄙㄨㄛ ㄒㄧㄝ ˇ
- 拼音
- suō xiě
- 常用
- am、ASCII 等
含义
含义是一个汉语词汇，拼音为hán yì，基本意思是所包含的意义，意思；暗示，示意，也指带有某种意思，没有完全表露出来；或里面存在着一定意义，表面不清晰。出自《四世同堂》、《东方》等文献。
- 中文名
- 含义
- 注音
- ㄏㄢˊ ㄧˋ
- 解释
- 所包含的意义
- 拼音
- hán yì
- 同义
中文
中文是中国普通高等学校专科专业。
- 中文名
- 中文
- 专业代码
- 570209
- 类别
- 教育与体育大类 >语言类
- 修业年限
- 三年
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此试题出现在
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LPCVD系统中淀积速率是受表面反应控制的，APCVD系统中淀积速率受质量输运控制。
与APCVD相比，LPCVD有更低的成本、更高的产量以及更好的膜性能，因此应用更为广泛。
LPCVD多晶硅和氮化硅等薄膜易形成保形覆盖，在低温APCVD中，非保形覆盖一般比较常见。
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APCVD（常压CVD）
在LPCVD中，由于hG>>kS，即质量转移系数远大于表面反应速率常数，所以，LPCVD系统中，淀积过程主要是质量转移控制
在LPCVD中，由于hG>>kS，即质量转移系数远大于表面反应速率常数，所以，LPCVD系统中，淀积过程主要是表面反应速率控制